Лазерная очистка основана на контролируемом взаимодействии импульсного лазерного излучения с поверхностью материала. Она удаляет нежелательные слои, такие как оксиды, краски, жир и остатки, без механического контакта, абразивов или химикатов. Процесс очистки осуществляется посредством двух основных физических механизмов: фототермического и фотомеханического эффектов, на которые влияют рабочие параметры лазера. Глубокое понимание этих принципов необходимо для обеспечения эффективности очистки при одновременной защите целостности основного материала. Физические механизмы лазерной очистки Фототермический механизм Фототермический эффект основан на селективном нагревании. Когда лазерный луч попадает на поверхность, слой загрязнений поглощает энергию лазера и быстро нагревается. Это тепло может вызвать: